第455章 EBL光刻机开始测试(明天开始正常更新)(2 / 2)

“嗯,好的,我立刻下来!”他果断回答,随即放下手头的工作,离开办公大楼,快步朝实验室走去。

走在路上,看着路两旁的绿树,郝强的心中满是期待。

EBL光刻机的研发历程并不平坦,经历了无数个日夜的努力与坚持,终于迎来了这个关键时刻。

他知道,这不仅仅是一台机器的测试,更是整个团队心血的结晶。

当他走进实验室时,科研人员们的脸上洋溢着兴奋的神情,空气中弥漫着紧张而期待的气息。

组长站在设备前,满脸期待地指着刚刚组装好的光刻机,仿佛是在向郝强展示一件珍贵的艺术品。

“总算组装完成了,就是有点担忧。”组长的声音中透着激动,又有一些担忧。

第一次测试,多多少少会有些问题。

小问题还好,若是大问题的话,就有可能前功尽弃。

汽车公司和锂电公司的希望全压在他们身上。

“嗯,我再次检查一下。”

郝强走近设备,仔细打量着每一个细节,心中感慨万千。

他想起了团队成员们在实验室里加班加点的日子,想起了那些熬夜调试、反复试验的身影。

每一个人都在为了这个目标而努力,付出了巨大的心血。

抚平心情,认真地检查。

其实,在组装之前,每个零部件都进行过测试了,确保总测顺利。

郝强眼前这个样机EBL001,主机尺寸长4米,宽2.5米,高约3.5米,重约3.5吨。

整个系统包括控制机柜、真空泵系统、冷却水循环系统、减振台座、操作控制台等,全套系统重约10吨。

算上这些配套设备,一台EBL光刻机就不止十平方米了,通常需要至少50平方米的,要求室内净高达到4米,且对地面稳定性有较高要求,重新打了地基,免得工作时影响了工作精度。

当然,哪怕精度是相对性的,理论上跟地面震动没有影响,但纳米级设备要求就比较高。

除了避震要求外,还要求恒温:20±1℃

-相对湿度:45±5%

洁净度:Class100-1000级

以及要求良好的电磁防护。

大概一个小时后,

郝强也没有发现什么大问题,但还是有些担忧,让组长开始测试。

随着组长的指令,测试正式开始。

实验室内的气氛瞬间变得紧张而激动,所有人都屏息凝视,目光紧盯着设备的反应。

随着启动按钮的按下,设备发出轻微的嗡鸣声,逐渐运转起来,显示屏上开始闪烁着数据。

“设备正常运转!”组长略有兴奋,说明路子是对的。

当然,要测试自然要拿实物硅片进行。

实验室里已经准备好了许多片涂上光刻胶的硅片,EBL光刻机与传统的光刻机不同,它无需掩膜版,直接写入。

光刻机的工作原理,简单来说,就是把硅片当成一块黑板,然后在黑板上画电路图。

而紫外线或电子束(EBL光刻机)就是粉笔,粉笔的粗细就是线条的粗细。

由于黑板大小固定,要想画更多的图,自然是粉笔越细越好,但相应地对技术要求更高,就越难画。

黑板上的一层膜,对应光刻胶。

画完图后,将硅片浸泡在腐化剂中,失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路。

用专业的角度来说,

EBL光刻机与紫光光刻机有一些不同。

首先,在机器顶部的电子枪区域,场发射电子源开始工作。

在强大的电场作用下,尖锐的钨针尖端释放出高能电子束。

这些高速电子束就像一支训练有素的微观部队,整齐划一地向下加速。

随后,电子束进入复杂的电磁透镜系统。

多组精密的电磁线圈产生磁场,就像一个个无形的透镜,将电子束逐步聚焦成极细的光点。

这束光点的直径可以细到纳米级别,目前工艺制程是工艺制程14nm。

1毫米等于1000000纳米(百万)。

而人类的一根头发丝的直径大约为0.04~0.05毫米,即4万到5万纳米。

在偏转系统中,精密的偏转线圈控制着电子束的运动轨迹。

通过计算机程序的精确控制,电子束能够在硅片表面进行精确定位和扫描,就像一支精确的纳米画笔。

在真空室底部,覆盖着光刻胶的硅片正静静等待着。

当高能电子束击中光刻胶表面时,发生剧烈的化学反应。

被电子束照射过的区域,光刻胶的分子结构发生改变,为后续的显影过程做好准备。

这就是EBL光刻机的曝光过程。

此时,

眼前这台造价昂贵的设备,正在以一种近乎完美的方式运转着,将公司芯片设计部门的设计图纸青龙8124转化为纳米级的实体结构。

它就像一位精确的画家,用电子为笔,在硅片上描绘出集成电路的蓝图。

随着加工的进行,实验室里回荡着设备运转的轻微嗡鸣声。

车载芯片青龙8124已经在计算机上验证与测试过了,郝强已经验收,完全没问题了。

如今,就差制造这一步。

以目前的运转情况来说,只能说是初步成功。

屏幕上也呈现了画图过程,但实际情况,那是肉眼看不到的,需要拿去测试。

EBL001最大产能为150WPH,即处理一个硅片,只需要24秒左右,效率非常高。

当然,设计图越复杂,耗费时间就越长。

理论来说,EBL光刻机的曝光速度很慢,但郝强的技术商店就解决了这个问题。

没过多久,

第一片硅片曝光完成,接着继续第二个硅片曝光,直到曝光十个硅片。

“把后续的显影、封装等工艺完成后进行测试,测试结果出来后跟我说一下。”郝强跟组长交代,“目前看来,我们只是初步成功了,理论上研制EBL光刻机这条路是行得通的。”

大家听到董事长的话,实验室内瞬间爆发出一阵热烈的掌声与欢呼,科研人员们相互击掌,脸上洋溢着无法掩饰的喜悦与兴奋。

当然,大家也知道,这只是初步成功而已,还不能高兴过早。

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